磁控溅射镀膜靶

    镀膜玻璃由于使用环境的需要，镀制在玻璃上的膜层首先必须具有一定的光学性能，同时也要求膜层有一定的理化性能，如结合力、耐磨性、耐酸碱性等，因此镀膜玻璃的质量就与磁控溅射镀膜靶材质息息相关。
     目前国内最常用的靶材有钛、铬、含铬不锈钢，其中不锈钢靶以其易于加工，价格低廉，与氧气极易反应生成较透明的不锈钢氧化物的特点为许多厂家采用，但不锈钢膜层因靶材成份限制各方面性能难尽人意。
     北京凯兴达工业技术开发有限公司在提供纯钼靶、钴靶、镍靶的基础上，针对目前国内广泛采用的1Cr18Ni9Ti、316L膜层Fe含量高，长期使用易氧化，耐腐蚀性差、结合强度低的特点，在提供常规不锈钢靶材基础上，又推出了Cr20Ni80Ti材质的合金靶材，该材料为镍基合金，不添加Fe，使用寿命比常规1Cr18Ni9Ti长，膜层质量好，附着力强，在国外该材质已为广大镀膜厂家采用。

其主要成份如下：Ni+Cr≥99.95%（重量%）

     该材质能有效地改善镀膜层的质量，材料使用率高，成本大大低于纯铬靶，为广大磁控溅射镀膜厂家首选，目前已为北京有色金属研究总院、上海、山东等地厂家采用，对于提高产品质量起到了良好的效果。
     同时，北京凯兴达工业技术开发有限公司可根据用户要求调整合金中铬、钛、钼等成份的含量，尺寸、形状可根据用户要求定制。
    欢迎选用我单位产品，并衷心希望与您建立长期的合作关系，谢谢！